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実験施設


プロセス装置

  • プラズマCVM加工装置(写真)
  • EEM加工装置(写真)
  • 超純水電解加工装置(写真)
  • CARE加工装置(写真)
  • 多層膜形成装置(写真)
  • 電子ビーム蒸着装置（ULVAC）(写真)
  • 精密洗浄用ドラフトチャンバー(HITACHI PLANT HP001)(写真)
  • 電気化学STM/AFM（SII）(写真)
  • FIB（HITACHI FB-2100）(写真)

形状・膜厚計測装置

  • X線ミラー形状計測システム
  • 位相干渉顕微鏡（ZYGO　NewView 200）(写真)
  • フィゾー干渉計（ZYGO-GPI）(写真)
  • AFM(SII SPA-400)(写真)
  • AFM（Digital Instruments）(写真)
  • STM(JEOL)(写真)
  • レーザー共焦点顕微鏡（OLYMPUS LEXT OLS 3100）(写真)
  • 触針式粗さ計(TOKYO SEIMITSU surfcom 590-3D)(写真)
  • 光学顕微鏡
  • 分光エリプソメーター(写真)
  • SEM（HITACHI S-4800）(写真)
  • TEM(写真)

不純物計測装置

  • 蛍光X線不純物分析装置(写真)
  • ICP-MS(写真)
  • パーティクルカウンター
  • 溶存酸素計
  • TOCメーター

表面評価装置

  • X線集光ユニット
  • TDS(写真)
  • FTIR(写真)
  • XPS（ULVAC-PHI PHI Quantum 2000）
  • 走査型反射電子顕微鏡（SREM）(写真)