2025/3/5〜7に幕張メッセで開催されます 先進テクノフェア（ATF2025）・ Grinding Technology Japan 2025 (GTJ2025) （SiC, GaN加工技術展2025同時開催）の研究機関等パネル展示に出展します！

2025/3/14〜17に東京理科大学野田キャンパス&オンラインで開催されます第72回応用物理学会春季学術講演会で発表します！

萱尾澄人：[17a-K301-1] 光電気化学酸化反応を用いた窒化ガリウム基板の高能率研磨法の開発〜基板中の酸素不純物濃度分布と欠陥に由来する加工むらの抑制〜 3/17 9:00 @K301（講義棟）

2025/3/17〜19に千葉工業大学津田沼キャンパスで開催されます2025年度精密工学会春季大会学術講演会で発表します！

岩野新大　：[G45] XFELナノ集光ミラーのための二波長反射多層膜の開発 3/18 10:00 @G室

花田翔　　：[G49] AKBミラーを用いたEUV-FELナノ集光光学系の開発 3/18 10:45 @G室

武村紀歩　：[G51] 高分解能タイコグラフィのためのX線Risleyプリズム光学系の開発 3/18 11:30 @G室

松村正太郎：[F82] ワイヤ電極を用いたプラズマエッチングにおけるSi加工後表面粗さに関する検討 3/19 9:15 @F室

名畑元喜　：[F83] 励起光を用いた全面一括数値制御プラズマ加工に関する基礎検討 3/19 9:30 @F室

藤大雪　　：[C85] Naフラックス成長法用GaN種基板の光電気化学酸化を利用した高効率エッチング 3/19 10:00 @C室

2025/4/22〜25にパシフィコ横浜で開催される10th International Conference on X-ray Optics and Applications (XOPT2025)で発表します!

Masafumi Miyake: (Oral) Development of an etching technique using atmospheric pressure plasma to realize a distortion-free Ge channel-cut crystal monochromator

Kiho Takemura: (Poster) X-ray nanobeam scanner for high-resolution ptychography using Advanced KB mirror and Risley Prism

Arata Iwano: (Poster) Development of X-ray two-color multilayer for XFEL nanofocusing mirrors

Ryuji Oda: (Poster) Surface finishing of a micro channel-cut crystal monochromator for self-seeding using high-pressure plasma etching

Atsuya Nagamatsu: (Poster) Development of scanning-imaging X-ray microscope using advanced Kirkptrick-Baez mirror