2024年

• 山田純平
  "硬X線ミラーとその応用”
  月刊OPTRONICS, vol.43 No.510，2024年6月，pp．74-78（2024）
  
  

2022年

• 山田純平
  "硬X線ナノビームスキャナ光学系の発案と実証”
  Isotope News，No.781，2022年6月，pp．28-31（2021）
  
  
• Jumpei Yamada, Makina Yabashi
  "Hard X-ray nanobeam scanning using advanced Kirkpatrick-Baez mirrors and prisms”
  SPring-8/SACLA Research Frontiers 2021, pp108-109 2022年8月
  
  
• 山内和人
  "放射光ビームラインにおけるX線ナノ集光ミラー光学系の高度化とズーム機能の実現”
  光学，51(8) (2022) pp. 344-350.
  
  

2021年

• 山田純平
  "Wolter 3型配置を取り入れたAdvanced KB結像光学系の開発”
  X線・EUV結像光学ニューズレター，No.53，2021年5月，pp．10-13（2021） PDF
  
  
• 佐野泰久，有馬健太，山内和人
  "触媒表面基準エッチング法による GaN 基板の平坦化”
  砥粒加工学会誌, 65巻, 7号, pp. 364-367 (2021)
  
  

2020年

• 山内和人
  "平成のX線光学・超精密加工を振り返る 〜高精度X線ナノ集光ミラーの開発と超精密加工〜”
  精密工学会誌，Vol.86，No.1，pp．32-38（2020）
  
  
• 松山智至
  ”X線自由電子レーザーのための波面収差補正されたX線集光鏡の開発―10nm以下の極限集光を目指して―”
  レーザー加工学会誌，Vol. 27, No. 1, pp. 1-4 (2020)
  
  
• 松山智至，志村まり
  ”元素イメージング�@蛍光X線顕微鏡による細胞内元素の高分解能イメージングの試み”
  腎臓内科，Vol. 11, No. 2, pp. 159-167 (2020)
  
  
• 山内和人
  "EEM(Elastic Emission Machining)法について”
  機械技術，4月号，pp．24（2020）, PDF
  
  

2019年

• 松山智至
  "X線領域のグレーティング干渉計による波面計測”
  "Wavefront Measurement Using a Grating Interferometer in the X-ray Region”
  精密工学会誌，Vol.85，No.8，pp．680-684（2019）
  
  

2018年

• 松山智至
  "全反射結像ミラーを用いた色収差のないX線顕微鏡”
  "Achromatic X-ray microscope based on total-reflection imaging mirrors”
  日本放射光学会会誌放射光，Vol.31，No.1，pp．22-31（2018）
  
  
• 佐野泰久
  "次世代パワーデバイス用SiC基板の研磨技術”
  精密工学会誌, Vol. 84, No. 3, p.213-216 (2018)
  
  
• 松山智至，山内和人
  "差分成膜法による高精度X線ミラー作製”
  "Ultraprecise X-ray Mirror Fabrication with Differential Deposition Method”
  精密工学会誌, Vol.84，No. 6，pp．511-514（2018）
  
  

2017年

• 大坂泰斗
  波長可変型硬X線分割・遅延光学系の開発：現状と将来展望
  日本放射光学会誌放射光，Vol．30，No．3，pp．145-151(2017)
  
  
• 山内和人
  放射光科学に貢献するX線のナノ集光技術
  學士會会報，No.923 (2017) p.85-91
  
  
• 松山智至
  4枚の形状可変鏡に基づく開口数可変集光光学系を用いた回折限界Ｘ線集光
  X線結像光学ニューズレター，No．45 p．1-4 (2017)
  
  
• 山内和人
  放射光科学のための高精度X線ミラーの開発
  応用物理，vol.86, No.10, p.862-866 (2017)
  
  
• 山内和人
  触媒表面基準エッチング法による機能材料表面の原子スケール平坦化
  NEW GLASS，vol.32 No.3, p.7-15 (2017)
  
  
• 佐野泰久, 有馬健太, 山内和人
  "触媒表面を基準面とする化学研磨法の開発"
  砥粒加工学会誌, Vol 61, No 8, p.426-429 (2017)
  
  
• 松山智至，山内和人
  "放射光X線のための超高精度X線ミラー開発の最前線”
  精密工学会誌，83巻4号 p.300-304 (2017)
  
  

2016年

• 山内和人
  X線自由電子レーザーのナノ集光とX線非線形光学の探索
  生産と技術， 第68巻 第2号 (2016) p.46-51
  
  
• 山内和人， 松山智至
  高空間分解能化のための光学技術
  蛍光X線分析の実際　第2版 (2016) 13.4章, p.196-197
  
  
• 佐野泰久
  "ワイドギャップ半導体基板作製における高能率ドライプロセス"
  ケミカルエンジニヤリング, Vol. 61, No. 10, p. 750-756 (2016)
  
  

2015年

• 山内和人
  硬X線ナノ集光技術の最前線
  放射線，vol. 41, No.1 (2015) p.15-20
  
  
• 佐野泰久
  大気圧プラズマを用いた超精密加工
  機械の研究，vol.68 No.10 (2015), pp832-838
  
  
• 志村まり，松山智至^*
  走査型蛍光エックス線顕微鏡による細胞内元素局在　〜細胞生物・医学への応用〜
  X線分析の進歩，46 (2015)，アグネ技術センター
  
  
• 松山智至, 志村まり
  細胞内微量元素イメージングと生物医学応用
  ぶんせき, 8号，p.328, 2015
  
  
• 山内和人，松山智至
  X線顕微鏡
  臨床と病理, vol.33 No.11, pp. 1257-1266, 2015
  
  
• K. Yamauchi, H. Mimura, S. Matsuyama, H. Yumoto, T. Kimura, Y. Takahashi, K. Tamasaku, T. Ishikawa
  Focusing Mirror for Coherent hard X-Rays
  Synchrotron Light Sources and Free-Electron Lasers, (2015) pp 1-26
  
  

2014年

• 山内和人
  X線光学
  光学，43(4) (2014) pp. 147-148.
  
  
• 山内和人
  第3部第2章1 触媒表面基準エッチング法によるワイドギャップ半導体の原子スケール平坦化
  超精密加工と表面科学−原子レベルの生産技術−，大阪大学出版 (2014)
  
  
• 佐野泰久
  第3部第2章2 半導体ウエハの超精密加工
  超精密加工と表面科学−原子レベルの生産技術−，大阪大学出版 (2014)
  
  

2013年

• 志村まり，松山智至
  蛍光X線顕微鏡システムを用いた細胞イメージング
  月刊メディカルテクノロジー, 41(2), pp.203-207 (2013), 医歯薬出版株式会社
  
  
• 松山智至
  高分解能X線顕微鏡の実現を目指して
  生産と技術, 65(2) (2013)，一般社団法人生産技術振興協会
  
  

2012年

• 中迫雅由、高山裕貴、苙口友隆、白濱圭也、関口優希、山本雅貴、米倉功治、引間孝明、眞木さおり、高橋幸生、鈴木明大、松永幸大、加藤翔一、星貴彦
  非結晶粒子のコヒーレントＸ線回折イメージング
  レーザー研究, 40 (2012) pp.680-686.
  
  
• 中迫雅由、高山裕貴、苙口友隆、白濱圭也、関口優希、山本雅貴、米倉功治、引間孝明、眞木さおり、高橋幸生、鈴木明大、松永幸大、加藤翔一、星貴彦
  X 線自由電子レーザーを用いた非結晶粒子のコヒーレントX 線回折イメージング実験
  月刊オプトロニクス, 31 (2012) pp.101-106.
  
  
• 佐野泰久，有馬健太，山内和人
  SiC基板表面の原子レベル平坦化技術
  『SiCパワーデバイスの開発と最新動向』, (2012) pp.311-319.
  
  
• 山内和人，佐野泰久，有馬健太
  触媒表面基準エッチングによる単結晶SiC，GaN表面の平滑化
  機械技術，60 (2012) pp.37-41
  
  

2011年

• 佐野泰久，有馬健太，山内和人
  SiC基板表面の原子レベル平坦化
  光技術コンタクト, 49 (2011) pp.22-27.
  
  
• Satoshi Matsuyama, Kazuto Yamauchi
  Trace element mapping of a single cell using a hard X-ray nanobeam focused by a Kirkpatrick-Baez mirror system
  SPring-8 Research Frontiers 2010, (2011) pp.44-45.
  
  
• Y. Takahashi, N. Zettsu
  Three-dimensional Electron Density Mapping of Shape-Controlled Nanoparticle by Focused Hard X-ray Diffraction Microscopy
  SPring-8 Research Frontiers 2010, (2011) pp.66-67.
  
  
• 佐野泰久
  CARE法
  『半導体SiC技術と応用 第２版』, (2011) 4.1.3.
  
  

2010年

• 山内和人，三村秀和，松山智至
  知識ベース (2010)，オーム社
  
  
• 佐野泰久，原英之，有馬健太，山内和人
  原子レベルで平坦な表面の創成技術
  トライボロジスト, 55 (2010) pp.148-153.
  
  
• 佐野泰久，山村和也，山内和人
  大気圧プラズマによるエッチングを応用した種々の加工法とその特性
  光技術コンタクト 第48巻 (2010) 260-265.
  
  
• Yasuhisa Sano, Kazuya Yamamura, and Kazuto Yamauchi
  Crystal Machining Using Atmospheric Pressure Plasma (Chapter 18)
  Crystal Growth Technology, Edited by P. Capper and P. Rudolph, Wiley-VCH (2010).
  
  
• 服部梓，岡本武志，定国峻，村田順二，有馬健太，佐野泰久，遠藤勝義，山内和人
  超平坦化加工を施した4H-SiC(0001)表面-高品質グラフェン作製への応用-
  表面科学、31 (2010) 466-479
  
  
• 三村秀和
  放射光とナノ精度光学素子が拓く世界
  学術の動向, 15 (8), pp.8_42-8_46, 2010.
  
  
• 三村秀和, 松山智至
  ミラー光学素子の開発およびその応用の現状と将来展望
  放射光, 23(3), 173-179, 2010.
  
  
• 西野吉則、 高橋幸生、 今本尚子、 石川哲也、 前島一博
  コヒーレントX線回折を用いたヒト染色体の三次元可視化
  放射光、23 (2010) 81-87.
  
  
• 高橋幸生
  第14回日本放射光学会奨励賞受賞研究報告「コヒーレントＸ線回折・散乱イメージング技術の開発とその応用」
  放射光、23 (2010) 124-127.
  
  
• 高橋幸生
  国際学会だより「第4回本会派遣JIM/TMS Young Leader International Sholar出張報告」
  まてりあ、49 (2010) 207.
  
  
• 高橋幸生
  Ｘ線ナノ集光技術の現状とその利用に向けた将来展望「硬X線集光ビームを用いた高分解能回折顕微法の開発とその将来展望」
  放射光、23 (2010)　188-193.
  
  
• 高橋幸生
  「放射光が拓く学術：若手人材探訪」―放射光が拓くイメージング―
  学術の動向、 8　(2010) 24-27.
  
  
• 高橋幸生
  高分解能Ｘ線回折顕微法の開発と応用
  X線結像光学ニューズレター、 23　(2010) 1-3.
  
  
• 志村まり, 松山智至
  走査型蛍光エックス線顕微鏡による細胞内元素マッピングの医学応用
  放射光、 23　(2010) 230-237.
  
  

2009年

• 佐野泰久, 村田順二, 原英之, 有馬健太, 山内和人
  ワイドギャップ半導体の電気化学的平坦化法−触媒基準エッチング法−
  日本表面科学会 第60回表面科学研究会 予稿集, 1-16 (2009)
  
  
• 三村秀和、山内和人、大森整
  X線自由電子レーザ集光ミラーの開発
  光アライアンス 20巻　29-32 (2009)
  
• 高橋幸生, 古川隼人, 久保英人, 山内和人, 西野吉則, 石川哲也, 松原英一郎
  コヒーレントＸ線回折顕微法の材料科学応用に関する取り組み
  KEK proceedings「X線位相利用計測の将来展望」, 27-30 (2009)
  
  
• 佐野泰久，山村和也，山内和人
  6.7.3項 マイクロ／ナノ加工
  『大気圧プラズマ 基礎と応用』, 357-362 (2009) オーム社
  
  
• 佐野泰久，山村和也，山内和人
  1.1.1.2.2 PCVMを用いたSiC基板の薄化
  『次世代パワー半導体　‐省エネルギー社会に向けたデバイス開発の最前線‐』(2009) エヌ・ティー・エス社
  
  
• Y. Takahashi, Y. Nishino, T. Ishikawa, E. Matsubara
  Mesoscopic structure analysis of metallic materials by coherent x-ray diffraction microscopy
  SPring-8 Research Frontiers 2007　70-71　(2009) エヌ・ティー・エス社
  
  

2008年

• 原 英之, 佐野泰久, 有馬健太，山内和人
  触媒基準エッチング法
  応用物理 第77巻 第2号 168-171(2008)
  
  
• Y. Takahashi, Y. Nishino, T. Ishikawa, E. Matsubara
  Mesoscopic structure analysis of metallic materials by coherent x-ray diffraction microscopy
  SPring-8 Research Frontiers 2007 (2008) 70-71
  
  
• 高橋幸生, 古川隼人, 久保英人, 山内和人, 西野吉則, 石川哲也, 松原英一郎
  コヒーレントＸ線回折顕微法の材料科学応用に関する取り組み
  KEK proceedings 2007-18 PF研究会「X線位相利用計測の将来展望」,(2008) 27-30
  
  

2007年

• 佐野泰久, 山内和人
  触媒基準エッチング法によるＳｉＣ，ＧａＮ基板の加工
  結晶加工と評価技術第145委員会 第109回研究会資料, 17-20 (2007).
  
  
• 三村秀和、湯本博勝、松山智至、山内和人
  位相回復波面計測法に基づくＸ線ナノ集光ミラーの開発
  光アライアンス,vol. 6(2007), p.42-p46.
  
  
• 佐野泰久, 三村秀和, 山村和也, 山内和人, 森勇藏
  高精度非球面ミラーの加工技術
  レーザー研究, Vol. 35, pp.162-167, 2007.
  
  
• 西野吉則、高橋幸生、石川哲也、松原英一郎
  コヒーレントＸ線回折顕微法によるナノスケール内部構造の3Dイメージング
  まてりあ, 46 (2007) 829.
  
  
• Yasuhisa Sano, Kazuya Yamamura, Hidekazu Mimura, Kazuto Yamauchi, and Yuzo Mori
  Plasma Chemical Vaporization Machining and Elastic Emission Machining (Chapter 19)
  Crystal Growth Technology, Edited by H. J. Scheel and P. Capper, Wiley-VCH (2008)
  
  

2006年

• 三村秀和, 山内和人
  X線ナノ集光ミラーの形状計測
  光アライアンス,vol. 8 (2006), p.45-p49.
  
  
• 三村秀和, 久保田章亀, 山内和人, 森 勇藏
  EEM(Elastic Emission Machining)によるナノ精度加工
  混相流, vol. 20(2) (2006), p.110-p.116.
  
  
• 三村秀和, 山内和人, 森勇藏
  Elastic Emission Machining
  工業調査会「図解 砥粒加工技術のすべて」(砥粒加工学会編)(2006), p114-115(分担執筆).
  
  
• 山村和也、佐野泰久、森　勇藏
  大気圧プラズマの生成制御と応用技術, 第13節　プラズマCVMによる超精密加工
  サイエンス＆テクノロジー
  
  

2003年

• 森 勇藏, 山内和人
  原子レベルの平滑面の創成（第�T編，第4章，第7節）
  ナノテクノロジーハンドブック, 難波 進他12名編 オーム社
  
  
• 森勇藏、山村和也、佐野泰久
  プラズマＣＶＭ(5.7)
  加工技術データファイル　基礎編（特殊加工),（財）機械振興協会　技術研究所
  
  
• Yuzo Mori, Kazuto Yamauchi, Kikuji Hirose, Kazuhisa Sugiyama, Kouji Inagaki, Hidekazu Mimura
  Numerically Controlled EEM (Elastic Emission Machining) System for Ultraprecision Figuring and Smoothing of Aspherical Surfaces (Chapter 27)
  Crystal Growth Technology, H. J. Scheel and T. Fukuda, John Wiley & Sons
  
  
• Yuzo Mori, Kazuya Yamamura, Yasuhisa Sano
  Plasma-CVM(Chemical Vaporization Machining
  Crystal Growth Technology, H. J. Scheel and T. Fukuda, John Wiley & Sons