Domestic Conference

  • 高橋幸生 (invited)
    コヒーレントX線回折・散乱イメージング技術の開発とその応用
    第23回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム,予稿集p37 (2010 1/6-1/9,兵庫,姫路)

  • 松山智至,藤井正輝,脇岡敏之,木谷直隆,三村秀和,佐野泰久,西野吉則,玉作賢治,矢橋牧名,石川哲也,山内和人
    結像型X線顕微鏡のための4枚ミラー反射型結像光学系の開発
    第23回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム,予稿集p104 (2010 1/6-1/9,兵庫,姫路)

  • 木村隆志,三村秀和,半田宗一郎,湯本博勝,山川大輔,松山智至,佐野泰久,玉作賢治,西野吉則,矢橋牧名,石川哲也,山内和人
    硬X線ナノ集光ビーム用波面誤差算出法の開発
    第23回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム,予稿集p66 (2010 1/6-1/9,兵庫,姫路)

  • 藤井正輝,松山智至,三村秀和,脇岡敏之,半田宗一郎,木村隆志,佐野泰久,西野吉則,玉作賢治,矢橋牧名,石川哲也,山内和人
    Advanced Kirkpatrick-Baezミラー光学系の開発
    第23回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム,予稿集p136 (2010 1/6-1/9,兵庫,姫路)

  • 久保英人、高橋幸生、是津信行、堤良輔、榊茂之、西野吉則、石川哲也、松原英一郎、山内和人
    KBミラー集光X線を用いたコヒーレントX線回折顕微法の応用
    第23回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム,予稿集p133 (2010 1/6-1/9,兵庫,姫路)

  • 山川大輔, 三村秀和, 木村隆志, 松山智至, 八須洋輔, 大森整, 山内和人
    大型ミラーによるX線自由電子レーザー用集光システムの開発
    第23回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム,予稿集p114 (2010 1/6-1/9,兵庫,姫路)

  • 脇岡敏之,松山智至,藤井正輝,木谷直隆,三村秀和,佐野泰久,西野吉則,玉作賢治,矢橋牧名,石川哲也,山内和人
    高密度X線ナノビーム形成のための並列型Kirkpatrick-Baezミラー光学系の開発
    第23回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム,予稿集p136 (2010 1/6-1/9,兵庫,姫路)

  • 堤 良輔、高橋幸生、西野吉則、久保英人、榊 茂之、三村秀和、松山智至、是津信行、石川哲也、松原英一郎、山内和人
    KBミラー放射光集光X線を用いた高分解能コヒーレントX線回折顕微法の開発
    第23回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム,予稿集p133 (2010 1/6-1/9,兵庫,姫路)

  • 榊茂之、高橋幸生
    高分解能X線回折顕微法を実現するための回折強度データ取得法の検討-ピクセルシフトによる回折パターンの高解像度化-
    第23回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム,予稿集p133 (2010 1/6-1/9,兵庫,姫路)

  • 横山光,三村秀和, 半田宗一郎,木村隆志, 山川大輔,松山智至, 山内和人
    硬X線用多層膜集光ミラーの光学設計および性能シミュレーション
    第23回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム,予稿集p114 (2010 1/6-1/9,兵庫,姫路)

  • 会田浩平,佐野泰久,山村和也,三村秀和,松山智至,山内和人
    ワイヤー電極を用いたPCVM(Plasma Chemical Vaporization Machining)によるSiC基板の切断加工
    2010年春季 第57回応用物理学関係連合講演会講演予稿集, 17a-TJ-12 (2010)

  • 岡本武志,佐野泰久,定国 峻,橘 一真,有馬健太,服部 梓,八木圭太,村田順二,白沢佑樹,山内和人
    触媒基準エッチング法によるSiCの平坦化と加工表面評価
    2010年春季 第57回応用物理学関係連合講演会講演予稿集, 17a-TJ-13 (2010)

  • 木谷直隆,松山智至,藤井正輝,脇岡敏之,三村秀和,山内和人
    4枚の非球面ミラーを用いた硬X線結像光学系の開発
    第57回応用物理学関係連合講演会,予稿集p63,19a-W-6 (2010 3/17-3/20,神奈川)

  • 服部 梓,岡本武志,定国 峻,村田順二,有馬健太,佐野泰久,遠藤勝義,山内和人
    300nm以上のドメインサイズをもつ4H-SiC(0001)上の高品質モノグラフェン
    2010年春季 第57回応用物理学関係連合講演会講演予稿集, 18p-TE-12 (2010)

  • 三村 秀和, 石倉 寛之, 松山 智至, 佐野 泰久, 山内 和人
    多孔質裏打ち電鋳法によるナノ精度表面形状転写プロセスの構築
    2010年精密工学会 春季学術講演会, 精密工学会学術講演会講演論文集, Vol. 2010S pp.305-306. (2010).

  • 定国峻, Ngo Xuan Dai, 佐野泰久, 有馬健太, 服部梓, 村田順二, 岡本武志, 橘一真, 山内和人
    白金触媒とHF溶液を用いた平坦化法によるSiC加工表面の高分解能TEM観察
    2010年度精密工学会春季大会 講演会講演論文集, 303-30 (2010)

  • 脇岡敏之,松山智至,藤井正輝,木谷直隆,三村秀和,佐野泰久,山内和人
    高密度X線ナノビーム形成のための並列型Kirkpatrick-Baezミラー光学系の開発
    2010年度精密工学会 春季大会学術講演会,アブストラクト集p51,D33 (2010 3/16-3/18,埼玉)

  • 吉永圭之介, 上坂翔平, 佐野泰久, 三村秀和, 松山智至, 山内和人
    数値制御大気圧プラズマ犠牲酸化法の開発−多電極型プラズマ発生装置の試作と評価−
    2010年度精密工学会春季大会 講演会講演論文集, 309-310 (2010)

  • 横山 光・半田宗一郎・三村秀和・木村隆志・松山智至・佐野泰久・山内和人
    硬X線用多層膜の作製と評価
    2010年度精密工学会春季大会 講演会講演論文集, 287-288 (2010)

  • 今井 将太, 山川 大輔, 三村 秀和, 木村 隆志, 八須 洋輔, 大森 整, 山内 和人
    大型ミラーによる硬X線集光システムの開発と集光特性の評価
    2010年度精密工学会春季大会 講演会講演論文集, 289-290 (2010)

  • 八須 洋輔, 上原 嘉宏, 大森 整, 林 偉民, 三村 秀和, 山川 大輔, 木村 隆志, 山内 和人, 高橋 豊, 山田 大輔
    ELID研削による石英長尺ミラーの製作
    2010年精密工学会 春季学術講演会, 精密工学会学術講演会講演論文集, Vol. 2010S pp.263-264. (2010).

  • 橘一真,佐野泰久,岡本武志,有馬健太,服部梓,八木圭太,村田順二,定国峻,白沢佑樹,山内和人
    触媒基準エッチング法による4H-SiC基板の平坦化加工と加工表面の評価
    精密工学会2010年度関西地方定期学術講演会講演論文集,74-75 (2010)

  • 吉永圭之介,上坂翔平,佐野泰久,三村秀和,松山智至,山内和人
    数値制御大気圧プラズマ犠牲酸化法によるSOIウェハSi層の厚さ均一化 -多電極型プラズマ発生装置の試作と評価-
    精密工学会 2010年度関西地方学術講演会 講演論文集 64-65

  • 横山光,三村秀和,木村隆志,半田宗一郎,松山智至,佐野泰久,山内和人
    硬X線集光用多層膜ミラーの光学設計に関する研究
    精密工学会 2010年度関西地方学術講演会 講演論文集 18-19

  • 三村秀和、木村隆志、横山光、今井将太、湯本博勝, 佐野泰久, 石川哲也, 山内和人
    多層膜ミラーによるSub-10nm 硬X線集光システムの開発
    2010年精密工学会 秋季学術講演会,アブストラクト集 P51,K31 (2010 9/27-9/29,名古屋)

  • 松山智至,脇岡敏之,木谷直隆,三村秀和,山内和人
    4枚の非球面ミラーを用いた結像型硬X線顕微鏡の開発
    2010年度精密工学会 秋季大会学術講演会,アブストラクト集 P51,K32 (2010 9/27-9/29,名古屋)

  • 会田浩平,佐野泰久,西川央明,山村和也,三村秀和,松山智至,山内和人
    PCVM (Plasma Chemical Vaporization Machining) による2インチSiC基板の全面加工
    2010年度精密工学会秋季大会 講演会講演論文集 735-736

  • 脇岡敏之,松山智至,木谷直隆,三村秀和,山内和人
    高密度X線ナノビーム形成のための並列型Kirkpatrick-Baezミラー光学系の開発
    2010年度精密工学会 秋季大会学術講演会,アブストラクト集 P51,K34 (2010 9/27-9/29,名古屋)

  • 定国峻,村田順二,八木圭太,佐野泰久,有馬健太,岡本武志,橘一真,山内和人
    化学エッチングを用いたGaN基板の高能率平坦化加工
    2010年度秋季 第71回応用物理学会学術講演会 講演予稿集 15p-B-14 (2010)

  • 高橋幸生、是津信行、堤良輔、山内和人、西野吉則、石川哲也、松原英一郎
    高分解能コヒーレントX線回折顕微法による金属ナノ粒子の三次元電子密度マッピング
    日本金属学会2010年秋期大会 226 (2010)

  • 定国峻,Ngo Xuan Dai,佐野泰久,有馬健太,服部梓,八木圭太,村田順二,岡本武志,橘一真,山内和人
    触媒基準エッチング法による平坦化4H-SiC表面の断面TEM観察
    SiC及び関連ワイドギャップ半導体研究会 第19回講演会, 67-68 (2010)

  • 会田浩平,佐野泰久,西川央明,山村和也,三村秀和,松山智至,山内和人
    PCVM (Plasma Chemical Vaporization Machining) を用いた2インチSiC基板の薄化
    SiC及び関連ワイドギャップ半導体研究会 第19回講演会, 56-57 (2010)

  • 西川央明,佐野泰久,会田浩平,Chaiyapat Tanpatjaroen,山村和也,三村秀和,松山智至,山内和人
    PCVM (Plasma Chemical Vaporization Machining) を用いたSiC基板の切断加工の検討 ―シャドウマスクを用いた切断加工の基礎検討―
    SiC及び関連ワイドギャップ半導体研究会 第19回講演会, 60-61 (2010)